La société chinoise Prinano livre le premier outil national de lithographie par nano-impression

Le fabricant chinois d'équipements Prinano a livré son premier système de lithographie par nanoimpression PL-SR son premier système de lithographie par nano-impression PL-SR développé par ses soins à un client national spécialisé dans les processus spéciaux. Ce système est prêt pour la production de puces réelles après les tests effectués par le client. Prinano est ainsi la deuxième entreprise, après Canon, à confier un outil de nano-impression à un client.

D'après les documents fournis, le PL-SR prend en charge des largeurs de ligne inférieures à dix nanomètres. Le FPA-1200NZ2C de Canon atteint une largeur de trait d'environ quatorze nanomètres. Elle est présentée comme permettant des puces de classe cinq nanomètres, mais les documents précisent que le résultat de Prinano ne signifie pas que la PL-SR peut fabriquer une logique avancée à un nœud de cinq nanomètres.

L'intérêt de la nanoimpression est simple : elle permet d'éviter les sources de lumière ultraviolette extrême utilisées dans la lithographie EUV commerciale, ce qui réduit la consommation d'énergie et le coût de l'équipement. La contrepartie est le débit et la flexibilité. La nano-impression reste plus lente que la lithographie optique conventionnelle et n'est pas adaptée aux processus logiques complexes avec des motifs complexes et avancés.

La machine de Prinano modèle les plaquettes en pressant un moule rigide en quartz, gravé de circuits à l'échelle nanométrique, dans une fine couche de réserve déposée par jet d'encre. Le module jet d'encre du système mesure dynamiquement le volume des gouttelettes afin de maintenir la couche résiduelle fine (moins de dix nanomètres avec une variation de moins de deux nanomètres), puis durcit le motif en vue de la gravure ultérieure. L'outil prend en charge les plaquettes de 300 mm, aligne le moule et la plaquette avec des tolérances fines et imprime chaque champ de manière séquentielle avec des points de couture pour couvrir la totalité de la plaquette. Il permet également d'assembler des gabarits uniformes de 20 mm x 20 mm à 300 mm x 300 mm.

Un mécanisme propriétaire de contrôle du profil des gabarits vise à compenser les disparités de courbure entre le moule et la plaquette, ce qui permet de transférer des caractéristiques avec des rapports d'aspect supérieurs à sept pour un tout en limitant la distorsion, une préoccupation pratique importante pour le rendement et la variabilité des dispositifs. Après l'impression, la résine sert de masque pour la gravure des structures finales.

La validation initiale vise les applications présentant des motifs réguliers et répétitifs : NAND Flash, micro-écrans à base de silicium, photonique au silicium et emballages avancés. Ces domaines bénéficient du pas fin de la technologie et de l'assemblage champ par champ sans exiger la diversité de motifs typique des processeurs et des processeurs graphiques. Le document présente également la nanoimpression nationale comme un moyen pour les fabricants chinois de mémoires de réduire leur dépendance à l'égard des outils étrangers et de rivaliser plus efficacement avec les fournisseurs établis.